Search
Close this search box.

Day: November 19, 2025

Nearfield Instruments ลงนามโครงการพัฒนาหลายปีเพื่อยกระดับการตรวจวัดในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์

November 19, 2025

รอตเทอร์ดัม เนเธอร์แลนด์, Nov. 19, 2025 (GLOBE NEWSWIRE) — Nearfield Instruments ผู้นำด้านโซลูชันการควบคุมกระบวนการแบบ 3 มิติ ไม่ทำลายชิ้นงาน และตรวจวัดได้แบบอินไลน์ โดยอาศัยเทคโนโลยีสแกนนิงโพรบ ประกาศเปิดตัวโครงการพัฒนากลยุทธ์ร่วมกันเพื่อเร่งสร้างนวัตกรรมในงานเมโทรโลยีสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ในฐานะส่วนหนึ่งของความร่วมมือหลายปีนี้ Nearfield Instruments จะนำระบบเรือธงของบริษัท QUADRA ไปติดตั้ง ณ ศูนย์วิจัยและพัฒนาขั้นสูงของ Imec ในเมืองลูเวน ทั้งสององค์กรจะร่วมกันพัฒนาโซลูชันเมโทรโลยีรุ่นใหม่เพื่อตอบโจทย์ความท้าทายสำคัญต่าง ๆ ในห่วงโซ่การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ รวมถึง: เมโทรโลยีสำหรับ High-NA EUV Lithography การพัฒนาและการวิเคราะห์เมโทรโลยีแบบ 3 มิติของวัสดุเรซิสต์สำหรับ High-NA EUV โดยใช้โหมดการถ่ายภาพสัดส่วนสูง (High-Aspect-Ratio: HAR) ที่เป็นเอกสิทธิ์ของ Nearfield (FFTP) เพื่อช่วยเพิ่มประสิทธิภาพของเครื่องสแกนเนอร์ การวัดลักษณะเฉพาะแบบ 3 มิติของอุปกรณ์ลอจิกขั้นสูง

Nearfield Instruments ลงนามโครงการพัฒนาหลายปีเพื่อยกระดับการตรวจวัดในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์

November 19, 2025

Nearfield Instruments ลงนามโครงการพัฒนาหลายปีเพื่อยกระดับการตรวจวัดในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ Leave a reply รอตเทอร์ดัม เนเธอร์แลนด์, Nov. 19, 2025 (GLOBE NEWSWIRE) — Nearfield Instruments ผู้นำด้านโซลูชันการควบคุมกระบวนการแบบ 3 มิติ ไม่ทำลายชิ้นงาน และตรวจวัดได้แบบอินไลน์ โดยอาศัยเทคโนโลยีสแกนนิงโพรบ ประกาศเปิดตัวโครงการพัฒนากลยุทธ์ร่วมกันเพื่อเร่งสร้างนวัตกรรมในงานเมโทรโลยีสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ในฐานะส่วนหนึ่งของความร่วมมือหลายปีนี้ Nearfield Instruments จะนำระบบเรือธงของบริษัท QUADRA ไปติดตั้ง ณ ศูนย์วิจัยและพัฒนาขั้นสูงของ Imec ในเมืองลูเวน ทั้งสององค์กรจะร่วมกันพัฒนาโซลูชันเมโทรโลยีรุ่นใหม่เพื่อตอบโจทย์ความท้าทายสำคัญต่าง ๆ ในห่วงโซ่การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ รวมถึง: เมโทรโลยีสำหรับ High-NA EUV Lithography การพัฒนาและการวิเคราะห์เมโทรโลยีแบบ 3 มิติของวัสดุเรซิสต์สำหรับ High-NA EUV โดยใช้โหมดการถ่ายภาพสัดส่วนสูง (High-Aspect-Ratio: HAR) ที่เป็นเอกสิทธิ์ของ

Quantexa Named as a Category Leader in Chartis Research’s 2025 AML Transaction Monitoring and KYC Solutions Reports

November 19, 2025

Decision Intelligence pioneer recognized for leadership in explainable AI, real-time behavioral monitoring, and contextual risk intelligence LONDON, Nov. 19, 2025 (GLOBE NEWSWIRE) — Quantexa, a global pioneer in Decision Intelligence, has been recognized as a Category Leader in Chartis’ RiskTech Quadrant for anti-money laundering (AML) transaction monitoring solutions and RiskTech

Quantexa Named as a Category Leader in Chartis Research’s 2025 AML Transaction Monitoring and KYC Solutions Reports

November 19, 2025

Quantexa Named as a Category Leader in Chartis Research’s 2025 AML Transaction Monitoring and KYC Solutions Reports Leave a reply Decision Intelligence pioneer recognized for leadership in explainable AI, real-time behavioral monitoring, and contextual risk intelligence LONDON, Nov. 19, 2025 (GLOBE NEWSWIRE) — Quantexa, a global pioneer in Decision Intelligence,

Quantexa Announces General Availability of Quantexa Unify for Microsoft Fabric

November 19, 2025

AI-powered integration seamlessly delivers unified, trusted data for analytics and decision-making within the Microsoft Fabric platform LONDON, Nov. 18, 2025 (GLOBE NEWSWIRE) — Quantexa, the global pioneer in Decision Intelligence (DI), today announced the general availability of Quantexa Unify for Microsoft Fabric, marking a major milestone in helping enterprises build

Quantexa Announces General Availability of Quantexa Unify for Microsoft Fabric

November 19, 2025

Quantexa Announces General Availability of Quantexa Unify for Microsoft Fabric Leave a reply AI-powered integration seamlessly delivers unified, trusted data for analytics and decision-making within the Microsoft Fabric platform LONDON, Nov. 18, 2025 (GLOBE NEWSWIRE) — Quantexa, the global pioneer in Decision Intelligence (DI), today announced the general availability of

Recent Posts
Copyright © 2026 Indonesia Tribune. All Rights Reserved.